新思科技助力Banias Labs更快实现网络SoC一次性流片成功
导言:新思科技近日宣布,其112G以太网PHY IP和业界领先的EDA解决方案成功协助Banias Labs实现光学DSP SoC设计的一次性流片成功。
新思科技近日宣布,其112G以太网PHY IP和业界领先的EDA解决方案成功协助Banias Labs实现光学DSP SoC设计的一次性流片成功。2021年,Banias Labs采用了新思科技的IP,以充分利用该IP在低延迟、传输长度灵活性、以及在5纳米工艺技术上的成熟度等方面的技术优势。基于此,新思科技为Banias Labs提供了包括布线可行性研究、封装基板指南、信号和电源完整性模型以及详尽的串扰分析等在内的全面IP解决方案。此外,新思科技EDA解决方案帮助Banias优化其芯片的功率、性能、面积和良率,并交付出高质量的设计结果。
Banias Labs首席执行官Amnon Rom表示:"当前,高性能计算基础设施亟需可信、完整的前沿设计解决方案。通过新思科技EDA解决方案,我们能够将可定制化的新思科技以太网PHY IP集成到我们的芯片中,从而提升系统性能并加快上市速度。"
新思科技IP营销和战略高级副总裁John Koeter表示:"超高速以太网设计在功率、面积、封装和信号完整性等方面都面临着巨大的挑战。新思科技能够为Banias Labs这类公司提供高性能、低延迟的解决方案,助力超大规模数据中心、网络、人工智能、光模块和以太网交换机的SoC开发,赋能新兴高性能计算设计。"
上市情况和其他资源
新思科技的112G以太网PHY IP可用于低至3纳米的多种先进工艺技术。
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